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X荧光无损膜厚分析仪
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产品: 浏览次数:335X荧光无损膜厚分析仪 
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最后更新: 2012-06-02 18:15
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X荧光无损膜厚分析仪运用X射线荧光的工作原理是,X 射线管产生初级射线照射在受检物质时,会激发物质放射X-射线萤光辐射,特定的元素有特定的辐射信号,接收器便会记录这些能量光谱。不需要先对样品进行处理便能测量,样品可直接放入测量室进行测量。不需要复杂、昂贵的仪器来抽真空,便能在正常的环境下测量从元素Z=13铝到Z=92(铀),固定、浆状及液体的样本也可以测量,即使是极小不规则形状的测量面积也可快速、免接触的测量。

X荧光无损膜厚分析仪主要应用方面:

由于可测量的元素范围拓阔至从铝至铀,X射线的应用范围从工业应用伸展到科学应用。它可应用于治金学、地质学、鉴证学或自然科学等,在工业方面,广泛用于五金电镀、电子半导体、PCB线路、首饰珠宝、卫浴、汽配的成份分析和镀层测量方面。

期待您的来电,金霖电子 吴小姐 手机:13603036715 TEL:0755-29371651 FAX:29371653 公司网址:www.kinglinhk.com 地址:宝安中心区宏发中心大厦
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